Talu ai nei, o le tele o tagata faʻaoga na fesiligia e uiga i le lelei ma le le lelei o le faʻaogaina o tekonolosi faʻapipiʻi, E tusa ai ma manaʻoga o tatou tagata faʻatau, o le taimi nei o le a faʻasoa mai e le au atamamai mai le RSM Technology Department, ma le faʻamoemoe e foia faafitauli.Masalo o loʻo i ai tulaga nei:
1、 Sputtering magnetron le paleni
Fa'apea e le tutusa le fela'ua'iga fa'amaneta o lo'o ui atu i totonu ma fafo o le pou fa'amaneta pito o le maneta fa'amaneta cathode e le tutusa, o se maneta e le paleni le fa'amaneta o le cathode.O le maneta o le magnetron sputtering cathode masani o loʻo faʻapipiʻi latalata i luga o le faʻamoemoe, ae o le maneta o le maneta e le paleni cathode sputtering e susulu mai le taulaiga.O le maneta o le magnetron cathode masani faʻatapulaʻa faʻatapulaʻaina le plasma latalata i luga o le sini, ae o le plasma latalata i le substrate e matua vaivai lava, ma o le a le osofaia le substrate e ni ion malolosi ma electrons.O le non-equilibrium magnetron cathode magnetic field e mafai ona faʻalauteleina le plasma mamao ese mai le faʻamoemoega luga ma faatofu le substrate.
2、 Leitio tele (RF) sputtering
Le mataupu faavae o le teuina insulating ata tifaga: o se tulaga le lelei o loʻo faʻaaogaina i le taʻavale e tuʻuina i tua o le faʻamaufaʻailoga.I totonu o le plasma glow discharge, pe a faatelevave le ipu ta'iala o le ion positive, e oso i luga le sini fa'amama i luma e mapu.E na'o le 10-7 sekone e mafai ona tumau ai lenei ta'a.A maeʻa lena, o le gafatia lelei e faia e le tau lelei e faʻaputuina i luga o le faʻamaufaʻailoga faʻapipiʻi e faʻafefe ai le tulaga le lelei i luga o le ipu taʻavale, o lea e taofia ai le osofaʻia o ion lelei maualuga-malosi i luga o le sini faʻapipiʻi.I le taimi nei, afai o le polarity o le sapalai o le eletise e toe suia, o le electrons o le a bombard le ipu insulating ma neutralize le moliaga lelei i luga o le ipu insulating i totonu o le 10-9 sekone, faia lona zero gafatia.I le taimi nei, o le fesuiaʻiina o le polarity o le eletise e mafai ona maua ai le sputtering mo 10-7 sekone.
Tulaga lelei o le RF sputtering: e mafai ona faʻafefe uma sini uʻamea ma faʻaogaina dielectric.
3、 DC magnetron sputtering
O le magnetron sputtering mea faʻapipiʻi faʻapupulaina le mageta i le DC sputtering cathode sini, faʻaaogaina le malosi o Lorentz o le maneta e fusifusia ma faʻalautele le ala o electrons i le eletise eletise, faʻateleina le avanoa o le fetoʻai i le va o electrons ma kasa atoms, faʻateleina le fua faatatau o le ionization o kasa atoms, faateleina le numera o ions maualuga-malosi pomu le sini ma faaitiitia le numera o electrons maualuga-malosi pomu le substrate plated.
Tulaga lelei o le planar magnetron sputtering:
1. E mafai ona oʻo i le 12w / cm2 le maualuga o le mana faʻamoemoe;
2. E mafai ona oʻo i le 600V le voltage faʻamoemoe;
3. O le mamafa o le kesi e mafai ona oʻo i le 0.5pa.
Le lelei o le planar magnetron sputtering: o le taulaiga e fausia ai se auala sputtering i le eria o le auala, o le togitogiina o le luga atoa sini e le tutusa, ma o le faʻaogaina o le fua faatatau e na o le 20% - 30%.
4、 Vaeluaga va'aiga AC magnetron sputtering
E faasino i le mea i le auala masani AC magnetron sputtering meafaigaluega, e masani lava lua sini e tutusa le tele ma foliga e configured i autafa, e masani ona taʻua o masaga taulaʻiga.O mea fa'apipi'i le tumau.E masani lava, e lua sini e faʻamalosia i le taimi e tasi.I le faagasologa o le feololo AC magnetron reactive sputtering, o sini e lua e galue e pei o anode ma cathode i le faasologa, ma latou galulue e pei anode cathode le tasi i le isi i le afa taamilosaga.A o'o le sini i le afa le lelei o le taamilosaga, e tu'i le pito i luga o le manu'a ma fa'aoso i ion lelei;I le afa lelei o le taamilosaga, o le eletise o le plasma ua faatelevaveina i luga o le taulaiga e faʻafefe ai le tau lelei o loʻo faʻaputuina i luga o le insulating surface o le pito i luga, lea e le gata ina taofiofia ai le faʻamumuina o le pito i luga, ae faʻaumatia ai foi le tulaga o le " ua mou atu anode”.
O mea lelei ole vaeluaga ole vaeluagalemu fa'alua fa'asaga fa'afoliga sputtering o:
(1) Tulaga maualuga o le teuina.Mo fa'amoemoega silikoni, o le fa'aputuina o le fa'aogaina o le fa'aoso fa'aoso fa'asolosolo e 10 taimi nai lo le fa'afefeteina o le DC;
(2) E mafai ona faʻamautuina le faʻagasologa o le sputtering i le tulaga faʻatulagaina;
(3) Ua fa'ate'aina le fa'aaliga o le "mu".O le tele o le faaletonu o le ata tifaga saunia o le tele o poloaiga o le tele e itiiti ifo nai lo le DC reactive sputtering method;
(4) O le maualuga o le vevela o le substrate e aoga e faʻaleleia ai le lelei ma le pipii o le ata;
(5) Afai e faigofie atu le faʻaogaina o le eletise e faʻafetaui le sini nai lo le sapalai eletise RF.
5、 Reactive magnetron sputtering
I le fa'agasologa o le sputtering, e fafaga le kasa tali e tali atu ai ma mea'ai mapuna e maua ai ata fa'afefiloi.E mafai ona tu'uina atu le kesi fa'afefe e tali atu ma le sputtering compound target i le taimi lava e tasi, ma e mafai fo'i ona tu'uina atu le kasa fa'afoliga e tali atu i le u'amea sputtering po'o le fa'amea fa'ameamea i le taimi e tasi e saunia ai ata fa'afefiloi ma se fua fa'atatau kemikolo.
Tulaga lelei o ata fa'apipi'i fa'ato'aga magnetron sputtering:
(1) O mea faʻatatau ma kasa faʻaogaina o loʻo faʻaaogaina o le okesene, nitrogen, hydrocarbons, ma isi mea, lea e masani ona faigofie ona maua ni oloa mama maualuga, lea e faʻaogaina i le saunia o ata faʻapipiʻi maualuga-mama;
(2) E ala i le fetuunaiga o le faagasologa, e mafai ona saunia ata tifaga vailaʻau poʻo le leai o ni vailaʻau, ina ia mafai ona fetuunai uiga o ata tifaga;
(3) E le maualuga le vevela o le substrate, ma e itiiti ni tapulaa i luga o le substrate;
(4) E fetaui lelei mo le faʻapipiʻiina o toniga lautele ma iloa ai le gaosiga o fale gaosi oloa.
I le faʻagasologa o le faʻaogaina o le magnetron sputtering, o le le mautonu o le faʻalavelave faʻalavelave e faigofie ona tupu, aemaise lava e aofia ai:
(1) E faigata ona saunia sini fa'aopoopo;
(2) Le mea mata'utia o le tu'iina o le arc (arc discharge) e mafua mai i le o'ona ma le le mautu o le fa'agasologa o le sputtering;
(3) Fa'aitiitia le fa'aputuina o le sputtering;
(4) O le tele o faaletonu o le ata e maualuga.
Taimi meli: Iul-21-2022