Uiga o le maualuga maualuga le mama alumini sputtering sini

I tausaga talu ai nei, faʻatasi ai ma le alualu i luma o fesoʻotaʻiga fesoʻotaʻiga (IC) tekonolosi, o faʻaoga fesoʻotaʻi o fesoʻotaʻiga faʻatasi ua vave ona atiaʻe.Ultra maualuga mama alumini alumini sputtering sini, e avea o se mea lagolago i le gaosiga o fesoʻotaʻiga uʻamea fesoʻotaʻiga, ua avea ma autu vevela i suʻesuʻega faʻapitonuʻu talu ai nei.le faatonu o le RSM o le a faaali mai ia i tatou uiga o le maualuga mama alumini alumini sputtering sini.

Ina ia faʻaleleia atili le faʻaleleia atili o le faʻaogaina o le magnetron sputtering sini ma faʻamautinoa le lelei o ata na teuina, o le tele o suʻega e faʻaalia ai o loʻo i ai ni manaʻoga faapitoa mo le tuufaatasiga, microstructure ma le faʻatulagaina o saito o le ultra-maualuga mama alumini alumini sputtering sini.

Ole tele ole saito ma le fa'asologa o saito o le fa'amoemoe e iai sona a'afiaga tele ile tapenaga ma meatotino o ata IC.O fa'ai'uga o lo'o fa'aalia ai le fa'aitiitia o le fa'aputuina i le fa'ateleina o le saito;Mo le manumanu faʻapipiʻi faʻatasi ma le tuʻufaʻatasiga tutusa, o le fua o le faʻafefe o le faʻatau ma le laʻititi laʻititi e sili atu le vave nai lo le faʻamoemoe e tele saito;O le tele o le togiga o le saito o le sini, o le sili atu lea o le tutusa o le tufatufa mafiafia o ata na teuina.

I lalo o le meafaigaluega sputtering tutusa ma faiga taʻiala, o le sputtering fua faatatau Al Cu alloy faʻatuputeleina i le faateleina o le atomic density, ae e masani ona mautu i se tulaga.O le a'afiaga o le saito i luga o le fua o le sputtering e mafua mai i le suiga o le mamafa o le atomic ma le suiga o le saito;Ole fua ole fa'aputuina e tele lava ina a'afia ile fa'asologa o saito ole Al Cu alloy target.I luga o le faʻavae o le faʻamautinoaina o le faʻatusatusaga o (200) vaalele tioata, o le faʻateleina o le faʻatusatusaga o (111), (220) ma (311) vaalele tioata o le a faʻateleina ai le faʻapipiʻiina.

O le saito tele ma le saito orientation o le ultra-maualuga mama alumini fa'ameamea sini e masani lava fetuutuunai ma pulea e ingot homogenization, galue vevela ma recrystallization annealing.Faatasi ai ma le atinaʻeina o le tele o le wafer i le 20.32cm (8in) ma le 30.48cm (12in), o loʻo faʻateleina foʻi le lapoʻa faʻatatau, lea e tuʻuina atu ai manaʻoga maualuga atu mo le maualuga o le mama alumini alumini sputtering sini.Ina ia mautinoa le lelei o ata tifaga ma fua mai, e tatau ona matua faʻatonutonuina le faʻatulagaina o faʻasologa o le faʻatulagaina ina ia faia ai le toniga microstructure sini ma le faʻatulagaina o fatu e tatau ona i ai le malosi (200) ma le (220) vaalele.