O le faʻamoemoe e tele aʻafiaga, ma o le maketi tau atinaʻe e tele.E aoga tele i le tele o vaega.Toeitiiti lava o mea fou uma sputtering e faaaoga maneta mamana e taamilo electrons e faatelevave le ionization o argon faataamilo i le taulaiga, e mafua ai le faateleina o le avanoa o fetoaiga i le va o le sini ma argon ion.Se'i o tatou va'ava'ai la i le sao o le sputtering taula'iga i le fa'a'ofu'ofu vacuum.
Fa'aleleia le fua o le sputtering.E masani lava, DC sputtering e faʻaaogaina mo le ufiufi uʻamea, aʻo le RF AC sputtering e faʻaaogaina mo mea e le faʻaaogaina maneta.O le mataupu faavae o le faʻaaogaina o le susulu e taia ai argon (AR) ions i luga o le pito i luga o le sini i le vacuum, ma o le cation i totonu o le plasma o le a faʻavavevave atu i luga o le eletise le lelei e pei o mea faʻafefe.O lenei a'afiaga o le a fa'afefe ai mea o le sini ma fa'aputu i luga o le mea'ai e fai ai se ata.
I le tulaga lautele, e tele uiga o le ufiufi ata e ala i le sputtering process: (1) uamea, uʻamea poʻo le insulator e mafai ona faia i faʻamatalaga ata.
(2) I lalo o tulaga fa'atulagaina talafeagai, o le ata e tutusa le fatuga e mafai ona faia mai le tele ma fa'aletonu sini.
(3) O le fa'afefiloi po'o le tu'ufa'atasiga o mea fa'atatau ma mole kesi e mafai ona gaosia e ala i le fa'aopoopoina o le okesene po'o isi kasa malosi i totonu o le atemosifia lafoa'i.
(4) E mafai ona pulea le faʻaogaina o le taimi nei ma le sputtering taimi, ma e faigofie ona maua le mafiafia o ata tifaga maualuga.
(5) Faʻatusatusa i isi faiga, e faʻamalosia i le gaosiga o ata tifaga toniga tetele.
(6) E toetoe lava a le a'afia i le kalave le vaega o lo'o mapu, ma e mafai ona fa'atulaga sa'oloto le tulaga o le fa'amoemoe ma le substrate.
Taimi meli: Me-17-2022